Intel Corporation bugün, şirketin bugüne kadar sağladığı en ayrıntılı işleme ve paketleme teknolojisi planlarından birini açıkladı. Şirket, 2025 ve sonrasına yönelik bir dizi temel yeniliği sergiledi. Intel yetkilileri, On yıldan uzun bir süredir ilk yeni transistör mimarisi olan RibbonFET’i ve endüstride bir ilk olan yeni bir backside güç dağıtım yöntemi olan PowerVia’yı duyurmanın yanı sıra, Yüksek Sayısal Açıklık (Yüksek NA) EUV olarak adlandırılan yeni nesil aşırı ultraviyole litografinin (EUV) planlı olarak hızlı bir şekilde benimsendiğinin altını çizdiler. Şirket, sektördeki ilk Yüksek NA EUV üretim aracını elde edecek şekilde konumlandı.
Intel CEO’su Pat Gelsinger, küresel “Intel Accelerated” web yayını sırasında yaptığı açıklamada şunları söyledi ;
“Gelişmiş paketlemede Intel’in tartışmasız liderliğini temel alarak, 2025 yılına kadar işleme performansı liderliği için doğru yolda olduğumuzdan emin olmak için inovasyon planlarımızı hızlandırıyoruz.”
Transistörden sistem seviyesine kadar teknolojik ilerlemeler sağlamak için benzersiz inovasyon hattından yararlandıklarını belirten Gelsinger şöyle devam etti :
“Periyodik tabloyu tüketene kadar Moore Yasası’nın peşindeyiz ve silikonun büyüsünü kullanarak durmadan yenilikler yapacağız.”
Endüstri, geleneksel nanometre tabanlı işlem düğümü isimlendirmesinin 1997’de gerçek gate-length metriğine uymayı bıraktığını kabul etti. Bugün Intel, müşterilere sektör genelindeki süreç düğümlerine ilişkin yeni bir adlandırma yapısı tanıttı. Intel CEO’su Pat Gelsinger Gelsinger şöyle konuştu :
“Bugün açıklanan yenilikler yalnızca Intel’in ürün yol haritasını mümkün kılmakla kalmayacak; aynı zamanda dökümhane müşterilerimiz için de kritik öneme sahip olacak. IFS’ye olan ilgi oldukça güçlü ve bugün ilk iki büyük müşterimizi duyurduğumuz için çok mutluyum. IFS göklere uzanıyor”
Intel teknoloji uzmanları, yeni düğüm adları ve her bir düğümü etkinleştiren yeniliklerle birlikte aşağıdaki yol haritasını açıkladı:
- Intel 7, FinFET transistör optimizasyonlarına dayalı olarak Intel 10nm SuperFin’e kıyasla watt başına yaklaşık %10 ila %15 performans artışı sağlar. Intel 7; 2021’de müşteri için Alder Lake ve 2022’nin ilk çeyreğinde üretime geçmesi beklenen veri merkezi için Sapphire Rapids gibi ürünlerde yer alacak.
- Intel 4, ultra kısa dalga boylu ışık kullanarak inanılmaz derecede küçük özellikler işlemek için EUV litografisini tamamiyle benimsiyor. Alan iyileştirmelerinin yanı sıra watt başına yaklaşık %20’lik bir performans artışı sunan Intel 4, müşteri için Meteor Lake ve veri merkezi için Granite Rapids dahil olmak üzere 2023’te sevkiyatı yapılacak ürünler için 2022’nin ikinci yarısında üretime hazır olacak.
- Intel 3, ek alan iyileştirmelerinin yanı sıra Intel 4’e göre watt başına yaklaşık %18’lik bir performans artışı sağlamak için FinFET optimizasyonlarından ve artırılmış EUV’den yararlanır. Intel 3, 2023’ün ikinci yarısında ürün üretmeye başlamaya hazır olacak.
- Intel 20A, iki çığır açan teknoloji olan RibbonFET ve PowerVia ile angstrom çağını başlatıyor. Intel’in çok yönlü bir transistör uygulaması olan RibbonFET, 2011’de FinFET’e öncülük etmesinden bu yana şirketin ilk yeni transistör mimarisi olacak. Bu teknoloji daha hızlı transistör anahtarlama hızları sunarken, daha küçük bir alanda birden çok kanatla aynı sürücü akımını elde ediyor. PowerVia, Intel’in endüstride bir ilk olan backside güç dağıtımı uygulaması ve yonga plakasının ön tarafında güç yönlendirme ihtiyacını ortadan kaldırarak sinyal iletimini optimize ediyor. Intel 20A’nın 2024’te artış yaşaması bekleniyor.
- 2025 ve İlerisi: Intel 20A’nın ötesinde, Intel 18A, transistör performansında başka bir büyük sıçrama sağlayacak RibbonFET iyileştirmeleriyle 2025’in başları için halihazırda geliştirilmekte. Intel ayrıca yeni nesil High NA EUV’yi tanımlamak, oluşturmak ve dağıtmak için çalışıyor ve sektördeki ilk üretim aracını almayı bekliyor. Intel, mevcut EUV neslinin ötesinde bu sektördeki atılımın başarısını garantilemek için ASML ile yakın bir işbirliği içinde.
Intel Teknoloji Geliştirme Kıdemli Başkan Yardımcısı ve Genel Müdürü Dr. Ann Kelleher şunları aktardı;
“Intel, endüstriyi sıçramalar ve sınırlarla ilerletmeye yönelik temel süreç yenilikleri konusunda uzun bir geçmişe sahip. 90 nm’de gergin silikona, 45 nm’de yüksek k-metal gate’lere ve 22 nm’de FinFET’e geçişi sağladık. Intel 20A, çığır açan iki yenilik olan RibbonFET ve PowerVia ile işleme teknolojisinde bambaşka bir dönüm noktası olacak.”
Intel’in yeni IDM 2.0 stratejisiyle, Moore Yasası’nın faydalarını gerçekleştirmek için paketleme daha da önemli hale geliyor. Ayrıca şirketin endüstri lideri gelişmiş paketleme yol haritasına ilişkin aşağıdaki bilgileri sağlıyor:
- EMIB, 2017’den beri ürün sevkiyatı devam eden ilk 2.5D gömülü köprü çözümüyle sektöre öncülük etmeye devam ediyor. Sapphire Rapids, EMIB (gömülü çok kalıplı ara bağlantı köprüsü) ile toplu olarak gönderilen ilk Xeon veri merkezi ürünü olacak. Aynı zamanda sektördeki ilk çift retikül boyutlu cihaz olacak ve monolitik bir tasarımla neredeyse aynı performansı sunacak. Sapphire Rapids’in ötesinde, yeni nesil EMIB, 55 mikronluk bir çarpma aralığından 45 mikrona geçecek.
- Foveros, türünün ilk örneği bir 3D yığınlama çözümü sağlamak için wafer-level düzeyinde paketleme yeteneklerinden yararlanır. Meteor Lake, bir müşteri ürününde Foveros’un ikinci nesil uygulaması olacak ve 36 mikronluk bir çarpma aralığına, birden fazla teknoloji düğümünü kapsayan karolara ve 5 ila 125W arasında bir termal tasarım güç aralığına sahip olacak.
- Foveros Omni, kalıptan kalıba bağlantı ve modüler tasarımlar için performans 3D yığınlama teknolojisi ile sınırsız esneklik sağlayarak yeni nesil Foveros teknolojisini kullanıyor. Foveros Omni, birden fazla üst kalıp karosunu, karışık fabrika düğümlerinde birden fazla taban karosu ile karıştırarak kalıp ayrıştırmasına izin veriyor ve 2023’te geniş hacimli üretime hazır olması bekleniyor.
- Foveros Direct, düşük dirençli ara bağlantılar için doğrudan bakırdan bakıra bağlamaya geçer ve wafer’ın bittiği yer ile paketin başladığı yer arasındaki sınırı bulanıklaştırır. Foveros Direct, 3D yığınlama için ara bağlantı yoğunluğunda bir büyüklük artışı sağlayan 10 mikron altı çarpma aralıklarını mümkün kılarak, daha önce ulaşılamayan işlevsel kalıp bölümleme için yeni konseptler sunar. Foveros Direct, Foveros Omni’nin tamamlayıcısıdır ve 2023’te hazır olması bekleniyor.
Bugün tartışılan atılımlar öncelikle Intel’in Oregon ve Arizona’daki tesislerinde geliştirildi. Ek olarak, yenilikler hem ABD hem de Avrupa’daki bir ortaklar ekosistemi ile yakın iş birliğine dayanıyor. Köklü ortaklıklar, laboratuvardan yüksek hacimli üretime kadar temel yenilikleri uygulamanın anahtarı. Intel, tedarik zincirlerini güçlendirmek, ekonomik ve ulusal güvenliği sağlamak için hükümetlerle ortaklık kurmaya kararlı.
Kaynak : 