Çinli bilim adamları, Çin’in yarı iletken endüstrisinin bugünü ve geleceği hakkında şaşırtıcı derecede olumsuz bir makale yayınladılar. İki üst düzey bilim adamına göre Çin, yarı iletkenle ilgili bilimsel araştırmaları ilerletmek için finansman, eğitim ve değerlendirme sistemlerinde reform yapmalı. Araştırmanın özeti şu şekilde;
“Yeni bir teknolojik devrim ve endüstriyel dönüşüm ortamı karşısında, teknolojik ekonomik güvenlikle ilgili sorunlar, büyük ülke ve bölgelerin ortak ilgi odağı haline geldi. Disiplin inşası perspektifinden bakıldığında makale, “neden”, “ne” ve “nasıl değerlendirilmeli” gibi temel konular etrafında temel teorik araştırmalar yapmakta, teknolojik ve ekonomik güvenliğe önem vermenin önemini ve aciliyetini analiz etmekte ve ortaya koymaktadır.
Teknoloji, işletme, endüstri, ülke ve bölge sorunları, Tekno-ekonomik güvenliğin temel sorunları gibi farklı düzeylerde odaklanılması gereken tekno-ekonomik güvenliğin temel sorunları, tekno-ekonomik güvenliğin ortaya çıkması ve evrimi için bir mekanizma çerçevesi inşa etti. 4 bağlantıdan oluşan ekonomik güvenlik: çevresel indüksiyon, element iletimi, çoklu geri bildirim ve uzay-zamansal evrim TMAPS (Teknoloji-Pazar-Ajan-Politika-Güvenlik) Modeli ve Güvenlik Değerlendirmesi için Gösterge Çerçevesi.
Bu çalışma, teknik ekonomik güvenliğin çağrışımını ve sınırlarını daha da netleştirmeye yardımcı olur ve teknik ekonomik güvenlik değerlendirmesinin güçlendirilmesi ve teknik ekonomik güvenlik seviyesinin sağlanması için teorik ve yöntem desteği sağlar.”
Çin Bilimler Akademisi (CAS) akademisyeni ve çip araştırmacısı olan yazarların makalesi , Çin’in çip sektörünün, ABD çip yapma yazılımına erişim olmadan ve derin ultraviyole (DUV) litografi araçlarına Japonya ve Hollanda tarafından getirilen kısıtlamalar nedeniyle “karanlık bir ormana” girdiğini söylüyor.
CAS Semiconductors Enstitüsü’nde araştırmacı olan Luo Junwei ve CAS başkan yardımcısı Li Shushen, 17 Şubat’ta yayınlanan bir makalede, Çin’in çip araştırmasını geliştirmek için derin bir reforma ihtiyaç olduğunu yazdı. Yazarlar, Çin’in son yıllarda temel bilimsel araştırmalara büyük önem verdiğini, ancak yine de çeşitli zorluklarla karşı karşıya olduğunu belirtiyor.
Elektronik tasarım otomasyonu pazar segmentine atıfta bulunarak,
“Yıllar geçtikçe, küresel yarı iletken ve mikro elektronik sektöründeki tüm temel araştırma başarıları EDA’nın süreç tasarım kitine (PDK) dahil edildi. Geçmişte Çinli çip üreticileri PDK’yı satın alıp kullanabildikleri için, karar vericilerimiz, hükümet yetkililerimiz ve endüstri oyuncularımız, Çin’in çip sektörünü temel araştırmalar yapmadan geliştirebileceğini düşünme eğilimindeydiler.
Ancak ABD ‘teknolojiyi’ kapattığı için artık karanlık bir ormana girdik.”
yazdılar. Çin’in şu anda fizikçi, araştırma fonu ve kurum kıtlığıyla karşı karşıya olduğunu, bilimsel araştırma için mevcut değerlendirme sisteminin yardımdan çok bir engel olduğunu savunuyorlar.
1997’de, Eğitim Bakanlığı daha önce üniversitelerde okutulan yarı iletken fiziği ve cihazları dersini iptal etti ve o zamandan beri Çin, yarı iletken araştırmacı sıkıntısıyla karşı karşıya kaldı. Yazarlar, Çin’in sektördeki araştırma ve geliştirme yatırımlarının ABD yatırımlarının %5’inden azını temsil ettiğini, Çin’in ise endüstrinin gelişmelerini organize edecek uygun bir kurumdan hâlâ yoksun olduğunu söylüyor.
Luo ve Li şöyle devam ediyor :
“Çin’in yonga üreticileri, verimi artırmaya çok fazla odaklandıkları ve yeni nesil transistörleri geliştirmek için zaman harcamadıkları için artık yabancı meslektaşlarının iki nesil gerisindeler. Üniversitelerdeki ve kurumlardaki araştırmacılar, yalnızca akademik makaleleri okudukları veya konferanslara katıldıkları için sektördeki sorunları bulmaya gerçekten yardımcı olamıyorlar.”
Yazarlar, Çin’in FinField-Effect (FinFET) transistörleri üzerindeki temel araştırmalarını şimdi artırmaya başlaması durumunda ABD yaptırımlarının neden olacağı gelecekteki kısıtlamalardan kaçınabileceğini savunuyorlar.
Bazı Çinli BT yazarları ve gözlemcileri, CAS makalesinin Çin’in çip sektörüne ilişkin kasvetli tasvirini okuduklarına şaşırdıklarını ve bu kadar sorun olduğunu düşünmediklerini söylediler. Ancak diğerleri, korkunç değerlendirmeye katılıyor.
Çin’de yirmi yıldır çalışan Tayvanlı eski bir çip mühendisi olan Wu Zihao, en iyi senaryoda bile Çin’in ancak altı yıl içinde kendi litografi araçlarıyla 28nm çip üretebileceğini söylüyor. Diğer ülkelerdeki fabrikalar o zamana kadar 14nm’den daha küçük çipler üreteceğinden, bu tür çiplerin o zamanlar çok fazla ticari değeri olmayabileceğini belirtiyor.
Çin medyası, Shanghai Micro Electronics Equipment’ın (SMEE) 28nm çip üretebildiği bildirilen SSA800/10W litografisini yakında teslim edeceğini söyleyip dururken , şirket raporları hiçbir zaman doğrulamadı. Wu, SMEE’nin birkaç yıl önce 90nm çipler yapmak için bir ArF excimer lazer kullanan bir SSX600 litografi aracının teslim edildiğini ve gerekli tüm testleri geçtiğini iddia ettiğini belirtiyor. SMEE’nin web sitesine göre, üç tür SSX600 litografi vardır.
Ancak Tayvanlı mühendis, teslim edilen makinenin aslında bir KrF excimer lazer ile yalnızca 130nm yongalar yapabildiğini ve hiçbir zaman seri üretim için kullanılmadığını söylüyor.
Çip uzmanı, şirketin iki kuşak atlayıp aniden SSX800 litografiyi piyasaya sürmesinin imkansız olduğunu söylüyor. SMEE böyle bir makineyi bundan iki yıl sonra yaratabilse bile, bundan sonra onu test etmenin ve verimini artırmanın dört yıl daha süreceğini ekliyor. Bu tahminin, ABD yaptırımları ve baskısı karşısında gittikçe zorlaşan SMEE’nin hâlâ yabancı parça tedarik edebileceği en iyimser senaryoya dayandığını söylüyor.
Çinli bilim adamlarına tavsiyesi, daha gelişmiş 28nm çiplere odaklanmadan önce 90nm veya 130nm çip yapma problemlerini çözmeleridir.
2020’den beri ABD yaptırımlarıyla karşı karşıya kalan Çin, Hollanda’dan 7 nm ila 22 nm yonga yapabilen EUV litografi araçlarını satın alamadı. Ancak, 28nm yongaları yapmak için DUV litografi makinelerini ithal edebiliyor.
Geçen Ağustos ayında, ABD Ticaret Bakanlığı’nın Sanayi ve Güvenlik Bürosu (BIS), Çin’in en son teknolojiye sahip 3nm yongaları tasarlamak için kullanılabilecek ABD elektronik tasarım otomasyonu (EDA) yazılımını edinmesini yasakladı. Ekim ayında, Çin’in ABD’den yüksek kaliteli yongalar ve yonga yapma araçları almasını engellemek için yeni bir dizi yonga ihracat yasağı duyurdu.
CAS’ın baş bilim adamı Li Guojie, geçen Ekim ayında yazdığı bir makalede, Çin’in artık 28nm ila 55nm yongaları yapmak için kullanılan olgun teknolojilere odaklanması gerektiğini çünkü yakın zamanda DUV litografi yapamayacağını yazdı.
Ancak, geçen ay Biden yönetimi tarafından ikna edildikten sonra, Hollanda ve Japon hükümetlerinin DUV litografilerinin Çin’e ihracatını kısıtlayacak yeni kurallar hazırladığı bildiriliyor. Birkaç analist, kurallar uygulanırsa Çin’in bunun yerine 65nm yongaları üretmeye odaklanması gerekeceğini söylüyor.
Kaynak : 